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光学应用产品光学应用产品基础知识——人造晶体培育方法及标准

人造晶体培育炉

培育炉的结构及水热合成法的特征

人造晶体使用一种被称为水热合成法的方法培育而成,该方法利用结晶在碱性溶液中的溶解度随温度而变化(温度越高,晶体就溶化得越多)的特性,并在高温、高压环境中培育。

培育炉是一种被称为高压釜的压力容器,其中充填Na2CO3或NaOH等碱性溶液,升温后在超临界状态下培育晶体。如果高压釜的上部温度保持低于下部温度,则在高温高压下溶解的原料会因溶液的对流而从下部向上部移动,并通过在种子结晶上析出而培育出人造晶体。通过调整培育条件以及种子结晶的方向和尺寸,可以根据用途培育出形状、尺寸和特性不相同的人造晶体。在严格的管理下培育的人造晶体的形状和尺寸得到控制,拥有均匀的质量。

低温侧晶体和高温侧晶体

晶体设备中使用的是“低温型晶体(α-Quartz)”,在常压下溶解并冷却时,会产生多种SiO2结晶体。因此,需要使用高压釜在高温高压条件下培育晶体。研究发现,晶体的结晶结构以573°C为边界,超过该温度则很容易发生变化,因此在处理晶体时需要格外小心,确保温度不超过573°C。

<关于SiO2的同质稳定相>

人造晶体毛坯的质量指标

人造晶体毛坯的质量标准为JIS-C6704和IEC 60758。

蚀刻通道密度(Etch Channels Density)

众所周知,晶体缺陷(线状缺陷、相变等)通过蚀刻处理可以变为更容易识别的状态。人们利用此特征并将进行蚀刻时出现在人造晶体上的“隧道状空腔数量”进行标准化。

等级 ρ/cm2的最大数
1aa 2
1a 5
1 10
2 30
3 100
4 300

异物密度(Inclusion Density)

规定结晶中所含异物的大小和数量。代表性异物有“霓石NaFe(SiO3)2”和“金刚砂Li2Na4Fe2Si12O30”等微细结晶,它们是由高压釜内壁材料铁(Fe)引起的。

等级 异物尺寸(µm)
各等级异物密度的最大值(Z区域每1cm3的异物个数)
10 to 30 30 to 70 70 to 100 100以上
1a 2 1 0 0
1b 3 2 1 1
6 4 2 2
9 5 4 3
12 12 6 4

红外线吸收系数(Infrared Absorption Coefficient)

晶体结晶中存在缺陷时,在缺陷部位会形成OH基。该OH基吸收特定红外线区域的光。随着结晶缺陷的增加,OH基的数量也增加,因此红外线吸收量也增加。另一方面,结晶缺陷影响晶体设备的特性,“Q值”被用作其指标。这个“Q值与结晶缺陷相关联的指标”就是“红外线吸收系数(率)”。

等级 每个等级的最大α值 估计Q值
(× 106
α3500 α3585 α3410
Aa 0.026 0.015 0.075 3.8
A 0.033 0.024 0.082 3.0
C 0.060 0.069 0.114 1.8
D 0.080 0.100 0.145 1.4
E 0.120 0.160 0.190 1.0